金属热处理

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工作压强对PECVD法制备DLC薄膜微观结构与力学性能的影响

  

Effect of deposition pressure on microstructure and mechanical properties of pulse-PECVD prepared DLC films

  • Online:2019-01-25 Published:2020-04-03

摘要: 采用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法(Pulse-PECVD)于316L不锈钢基体上制备类金刚石(DLC)薄膜,研究不同工作气压对DLC薄膜的沉积速率、表面形貌、微观结构、纳米硬度、弹性模量以及结合强度的影响规律。结果表明:随沉积气压增大,薄膜的沉积速率随之增大,压强在3 Pa时沉积速率可高达1. 4μm/h;不同气压下沉积的DLC薄膜均体现出平整光滑的表面形貌和高于不锈钢基体3倍以上的纳米硬度;沉积气压为2 Pa时,DLC薄膜在拉曼光谱中具有最小的ID/IG值,对应最高的纳米硬度16. 1 GPa和弹性模量152. 7 GPa,以及最低的粗糙度和摩擦因数0. 206。 

关键词: apos, #13, &, apos, #10, TurnPageToKnet('kw', '脉冲等离子体增强化学气相沉积', '')&, apos, #13, &, apos, #10, ">脉冲等离子体增强化学气相沉积, apos, #13, &, apos, #10, TurnPageToKnet('kw', 'DLC薄膜', '')&, apos, #13, &, apos, #10, ">DLC薄膜, apos, #13, &, apos, #10, TurnPageToKnet('kw', '工作压强', '')&, apos, #13, &, apos, #10, ">工作压强, apos, #13, &, apos, #10, TurnPageToKnet('kw', '拉曼光谱', '')&, apos, #13, &, apos, #10, ">拉曼光谱, apos, #13, &, apos, #10, TurnPageToKnet('kw', '力学性能', '')&, apos, #13, &, apos, #10, ">力学性能,

Key words: pulsed plasma-enhanced chemical vapor deposition(pulse-PECVD), DLC film, deposition pressure, Raman spectra, mechanical properties

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